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    等離子電暈表面設備

    表面處理設備

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    RotoVAC 旋轉真空等離子處理設備

    產(chǎn)品特征:

    ·安裝簡單,使用簡便
    ·處理時間短
    ·標準或定制化的處理倉
    ·真空度
    ·無需工藝氣體
    ·控制處理過程
    ·節(jié)約成本
    ·真空下的等離子處理



    標準和定制化的真空等離子處理設備
    Tantec的RotoVAC等離子處理設備用于處理小型注塑部件,無需放在支架上或使用復雜的搬運機構。RotoTEC采用旋轉的圓桶式設計,將處理產(chǎn)品放在圓桶中,再將圓桶放入真空腔體中旋轉便可以均勻的處理到產(chǎn)品所有表面。


    在等離子電極放電前,處理倉里會出現(xiàn)一個1至4mbar的真空,因此處理時間的非常短,根據(jù)產(chǎn)品的材質和結構,一般在20-180s之間。
    RotoVAC等離子處理設備具有操作簡單、生產(chǎn)可靠性高、處理速度快等特點。可使用氬氣或氧氣等工藝氣體,但是大多數(shù)情況下,等離子放電產(chǎn)生的高能量就可以大大提高物體表面能量,因此無需再使用這些工藝氣體。


    RotoVAC采用先進的HV-X系列的放電發(fā)生器,等離子變壓器根據(jù)電極進行設計,并為其提供高壓。圓桶的旋轉可保證每個產(chǎn)品得到處理。另可多配一個圓桶,以便輪流使用。


    特點:
    ·安裝簡單,使用簡便 連接電源和壓縮的空氣即可。
    ·處理時間短 根據(jù)產(chǎn)品材質和結構,一般在20-180s內(nèi)即可完成。
    ·標準或定制化的處理倉 處理倉和圓桶的大小可根據(jù)實際應用進行設計,一般情況下
    是標準的處理倉。
    ·真空度 根據(jù)實際應用,真空度一般在1-4mbar。
    ·無需工藝氣體 可使用氧氣和氬氣等工藝氣體,但大多數(shù)情況下無需使用
    這些工藝氣體。
    ·控制處理過程 等離子整個過程是由HV-X系列放電發(fā)生器和PLC裝置進行控制。
    觸摸面板上顯示了所有控制參數(shù)(標準——proface)
    ·節(jié)約成本 由于能耗低,不需特殊的工藝氣體,該套設備大大節(jié)約了成本,
    是改善物體表面潤濕性和粘合性的最佳方法。
    ·真空下的等離子處理 可處理導電和非導電的物體表面。




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